目前石材晶面處理是大理石最理想養(yǎng)護(hù)方法之一。它并沒有改變石質(zhì)的結(jié)構(gòu)，所以不改變?cè)馁|(zhì)感。而經(jīng)過晶面處理之后，石面分子更致密，光澤亮度明顯提高，使石面更亮麗、更高貴。石材打蠟可以讓石材色澤光亮，石材蠟是一種水溶性的材料，使用它就會(huì)在產(chǎn)品的上面生產(chǎn)一種保護(hù)膜，這樣，一能提高石材的亮度，但它對(duì)石材的保護(hù)效果是有限的，耐候性差，防污效果也不理想，而且容易牯附灰塵。

現(xiàn)今人們還發(fā)現(xiàn)打蠟還會(huì)對(duì)石材造成一些危害，因?yàn)樗亲鳛橐环N不透氣的封蓋保護(hù)材料敷在石材表面，石材的細(xì)孔被封閉后內(nèi)部和背后的濕氣散發(fā)不出來，積存在石材內(nèi)部時(shí)間久了致使石材發(fā)生病變。大理石磨塊拋光是石材護(hù)理晶面處理的前一道工藝流程或石材光板加工的最后一道程序。是如今石材護(hù)理的最重要的工藝流程之一，它不同于傳統(tǒng)意義上清潔公司業(yè)務(wù)范圍的大理石清洗打蠟拋光。

一、本質(zhì)區(qū)別

1 、大理石磨塊拋光是石材晶面處理的前奏或石材加工中必要的一道工藝流程。其主要原理是利用由無機(jī)酸、金屬氧化物等物質(zhì)合成的壓制磨塊配合機(jī)械磨盤的壓力、 高速磨削力、摩擦熱能，水的作用在比較光滑的大理石表面進(jìn)行的物理、化學(xué)化合作用，從而形成新的光亮晶體層。此晶體層具有超亮的、清晰的光度。光度可達(dá) 90-100度。此晶體 層是石材表層（1-2mm厚）的改性化合晶體層。

2 、大理石清洗是大理石打蠟拋光的前奏，大理石清洗打蠟拋光是屬于80--90年代初期比較流行的大理石清潔保養(yǎng)保護(hù)措施，如今已經(jīng)失去市場和存在的意義。它的本質(zhì)是在新鋪石材（拋光板）板面上覆蓋的一種丙烯酸樹脂與乳液的聚合物的薄薄涂層，就是我們常說的水蠟或地板蠟。再經(jīng)過高速、低壓力的拋光機(jī)配合纖維 墊在石材表面摩擦，使樹脂涂層更加光亮的一個(gè)過程。由于產(chǎn)品的更新，后來又出現(xiàn)了特光蠟、免拋蠟等，此涂層就類似于木地板上油的清漆。

3 、大理石護(hù)理晶面處理前的磨塊拋光工藝是石材表層與化學(xué)物的物理和化合作用過程。石材表層與底層完全化合成一個(gè)整體，不存在脫離層。

4 、大理石打蠟拋光上面的蠟層是附著于石材表面的，一層樹脂膜，與石材本身不存在化合反應(yīng)。此蠟?zāi)涌捎玫镀p輕一鏟，可以將蠟?zāi)は麟x于石材表面。

二、表象區(qū)別
1 、大理石磨塊打磨拋光是晶面護(hù)理石材護(hù)理的前奏，護(hù)理拋光后光度高、清晰度高,耐磨、耐踩，不易刮花，是石材使用功能的真實(shí)體現(xiàn)和價(jià)值延伸。

2 、石材打蠟拋光后的光度低，光度不清晰、而且很模糊，不耐磨、不耐水，易刮花、氧化變黃使石材本質(zhì)形象降低。

三、延伸與操作區(qū)別

1 、石材磨塊拋光后的晶體層和晶體層的持續(xù)護(hù)理（俗稱晶面護(hù)理）后，其毛孔不存在完全封閉，石材照樣可以里外透氣，石材不易病變。同時(shí)具有一定的防水、防污作用。

2 、大理石打蠟拋光后，石材毛孔被完全封閉，石材不可以里外透氣，所以石材容易產(chǎn)生病變。

3 、石材磨塊拋光后的晶體層和晶體層的持續(xù)護(hù)理具有易操作性，不需要清洗劑清洗地面，可以直接磨塊配合清水磨拋和藥劑干磨。可以隨時(shí)磨拋與護(hù)理，可以局部操作。石材表面顏色無新的反差。

4 、大理石打蠟拋光后，經(jīng)過一段時(shí)間后，需要除掉已經(jīng)殘舊的蠟層，需要使用起蠟水。需同時(shí)大面積操作施工，不可局部施工，局部施工后則表面有色差出現(xiàn)。

四、現(xiàn)實(shí)意義

1 、大理石在經(jīng)過拋光磨塊拋光后，光度可達(dá)90-100度，還原了石材出廠時(shí)的光度，實(shí)現(xiàn)了石材價(jià)值再現(xiàn)。晶面處理護(hù)理時(shí)，可以更省時(shí)、省力、節(jié)約成本，更具耐磨性能。 大理石打蠟拋光后，其表面光度下降，模糊不清晰，降低了石材的功能價(jià)值，不具觀賞性。

2 、由以上本質(zhì)與表象區(qū)別可以發(fā)現(xiàn)：大理石打蠟拋光必定被淘汰，淡出市場。由于大理石打磨拋光晶面護(hù)理的工藝原理與方法更先進(jìn)、能使大理石更具觀賞性和延長其使用壽命，所以大理石打磨拋光晶面護(hù)理將一路高歌，出現(xiàn)新一輪的高潮與競合。